Metal de silicio de metal de alto nivel
Descripción de los productos
El método para preparar muestras disolviendo, evaporando y luego derretir el residuo con un disolvente resuelve el problema de derretir directamente el silicio de metal para la preparación de la muestra. Permite la determinación simultánea de varios elementos de impureza enmetal de silicio, elimina la influencia de los efectos de la matriz, supera las limitaciones de las muestras estándar en las mediciones, tiene un amplio rango de medición y una alta precisión. Las condiciones de preparación de la muestra se determinaron organizando experimentos ortogonales.
Parámetros de productos
| Carde | Composición | ||||
| Contenido de Si (%) | Impurezas (%) | ||||
| Ceñudo | Alabama | California | P | ||
| Silicio Metal 1501 | 99.69 | 0.15 | 0.15 | 0.01 | Menos o igual a 0. 004% |
| Silicon Metal 1502 | 99.68 | 0.15 | 0.15 | 0.02 | Menos o igual a 0. 004% |
| Silicon Metal 1101 | 99.79 | 0.1 | 0.1 | 0.01 | Menos o igual a 0. 004% |
| Silicio Metal 2202 | 99.58 | 0.2 | 0.2 | 0.02 | Menos o igual a 0. 004% |
| Silicon Metal 2502 | 99.48 | 0.25 | 0.25 | 0.02 | Menos o igual a 0. 004% |
Imagen de cooperación de productos

1.Para reducir la dificultad de los procesos posteriores en el lavado ácido demetal de silicio, se agrega una nueva tecnología de oxidación húmeda a la tecnología madura de lavado de ácido a temperatura ambiente para la purificación de silicio metálico. La función principal del lavado de ácido es eliminar la mayoría de las impurezas metálicas expuestas en la superficie de las partículas de silicio metálico; Después de la oxidación húmeda, el boro, que tiene un pequeño coeficiente de condensación en la estructura interna de las partículas (en el sistema de silicio y sílice), se difunde en la sílice a altas temperaturas, y luego la capa de óxido y las impurezas contenidas en ella están grabando. Los experimentos han demostrado que este método tiene un efecto de purificación significativo sobre las impurezas de boro, con el contenido de impureza del boro tan bajo como 4 × 10^-6 después de la purificación. Las dos tecnologías son compatibles en términos de proceso y complementarios en los objetivos de purificación, lo que lo convierte en un método muy efectivo de purificación de baja energía y bajo costo.
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